多層底層抗反射層的製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

090007

專利證號

167696

專利獲證名稱

多層底層抗反射層的製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2002/11/11

技術說明

一種多層底層抗反射層的製造方法，此方法係首先提供一層底材層，接著在底材層上行成第 一底層抗反射層，再於第一底層抗反射層上形成第二底層抗反射層，然後在第二底層抗反射 層上形成氧化層，最後再對氧化層進行電漿處理步驟，並由第一底層抗反射層、第二底層抗 反射層以及氧化層組成本發明之多層底層抗反射層。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址