二次非線性光學高分子薄膜製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

085111870

專利證號

120448

專利獲證名稱

二次非線性光學高分子薄膜製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2000/08/01

技術說明

本發明係提出一種新的方法來製備二次非線性光學高分子薄 膜，此方法之特點為在單體蒸鍍聚合過程中共蒸鍍摻入具有該 非線性光學效應之分子並同時極化，此法之優點在於該薄膜可 在極低之極化場下製得，且無需經用傳統繁複的聚合程序，可 方便製得無數多種可供裁選的(tailorable)薄膜。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址