輻射冷却裝置及其製備方法和應用

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

110140180

專利證號

I 808520

專利獲證名稱

輻射冷却裝置及其製備方法和應用

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2023/07/11

技術說明

【中文】 一種輻射冷却裝置，包括一輻射冷却層，該輻射冷却層係由具有高能隙的複數個極化材料所組成，該極化材料具有至少一光散射單元以及一熱放射單元，其中該光散射單元可以與一太陽輻射相互作用產生散射，該熱放射單元可以與一熱輻射交互作用並增益該熱輻射能量強度。 【英文】 A radiation cooling device includes a radiation cooling layer composed of a plurality of polarized materials with a high energy gap, the polarized material having at least one light scattering unit and a heat radiation unit, wherein the light scattering unit can interact with a solar radiation to generate scattering, and the heat radiation unit can interact with a thermal radiation and increase the energy intensity of the thermal radiation.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址