Method for in-situ monitoring layer uniformity of sputter coating based on intensity distribution of plasma spectrum

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

09/642,793

專利證號

US 6,493,070 B1

專利獲證名稱

Method for in-situ monitoring layer uniformity of sputter coating based on intensity distribution of plasma spectrum

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2002/12/10

技術說明

本發明係在薄膜濺鍍製程中，在製程艙體外，量測發光光譜，經過光譜強度的處理後得到一濺鍍元素的特定波長的正規化強度分佈，當作基板上薄膜濺鍍速率，使用薄膜厚度計算公式計算得到基板上的薄膜厚度分佈，而達到即時監控薄膜均勻性的目的，或經由與一預先得到的標準強度分佈進行比對，而達到即時監控薄膜均勻性的目的。而該標準強度分佈係將該正規化強度分佈以薄膜厚度計算公式計算得到的基板上薄膜厚度分佈與一經實際量測薄膜厚度得知的一具希望獲得的厚度分佈比對吻合而得。本發明亦揭示一種在薄膜蒸鍍製程中使用光譜法即時監控薄膜厚度均勻性的方法。 optical monitor for optical coating

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址