使用準分子雷射進行回火的方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

089110230

專利證號

137418

專利獲證名稱

使用準分子雷射進行回火的方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2001/07/11

技術說明

使用準分子雷射進行回火的方法， 可應用領域：記憶體(DRAM、FeRAM)，高頻率波元件、光電材料

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智慧財產權中心

連絡電話

03-5738251

網址